光刻胶的成分

树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ，是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。
光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。

感光剂:感光剂是光刻胶的核心部分，他对光形式的辐射能，特别在紫外区会发生反应。
曝光时间、光源所发射光线的强，度都根据感光剂的特性选择决定的。

溶剂:光刻胶中容量较大的成分，感光剂和添加剂都是固体物质，为了方便均匀的涂覆，要将他们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，并且使之具有良好的流动性，山东负性光刻胶，可以通过选择方式涂布在waf er表面。

添加剂:用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂。

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光刻胶分类

光刻胶按其形成图形的极性可以分为：正性光刻胶和负性光刻胶。
正胶指的是聚合物的长链分子因光照而截断成短链分子；负胶指的是聚合物的短链分子因光照而交链长链分子。
短链分子聚合物可以被显影液溶解掉，负性光刻胶哪家好，因此正胶的曝光部分被去掉，而负胶的曝光部分被保留。

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光刻胶的未来市场

光刻胶市场需求逐年增加，2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元，而国内光刻胶需求量方面，2011年光刻胶需求量为3.51万吨，到2017年需求量为7.99万吨，年复合增长率达14.69%。

国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。
由于中国大陆光刻胶市场起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品，TFT-LCD、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少。

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