20.有没有光刻胶PC3-6000的资料吗?
A PC3-6000并不是光刻胶,它是用在chip
on glass 上的胶粘剂。
21.是否有Wax替代品?
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,光刻胶公司,比较容易去除掉。
22.贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料?
A 有,金属光刻胶公司,IC1-200就是
23.请问是否有不用HMDS步骤的正性光刻胶?
A 美国Futurrex 整个系列的光刻胶都不需要HMDS步骤,都可以简化。
24.一般咨询光刻胶,我们应该向客户咨询哪些资料?
A 1 需要知道要涂在什么材质上,2
还有要知道需要做的膜厚,3
还要知道光刻胶的分辨率
4还有需要正胶还是负胶,5
需要国产还是进口的
27.想找一款膜厚在120um,的光刻胶,有什么光刻胶可以做到啊!
A 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到Futurrex
NR21-20000P ,。
28.有没有了解一款美国Futurrex
NR9-250P的光刻胶,请教下?
A 这是一款负性光刻胶,湿法蚀刻使用的,附着力很好,耐100度的温度,国内也有可以代理的公司,Futurre
光刻胶是4大的电子化学品制造商,在光刻胶的领域有着不错的声誉,在太阳能光伏,和LED半导体行业都有不错的市场占有率。
29.想找款膜厚的产品,进行蚀刻,有什么好推荐?
A 厚膜应用(thick
film applicati),主要是指高纵横比(Aspect
ratios),高分辨率,高反差,有几款产品向你推荐一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,这些产品都需要用到边胶清洗液》
的光刻
光刻胶趋势
半导体光刻胶领域全球市场规模趋于稳定, 2017年全球市场约13.5亿美元;约20.2亿元,近5年复合增速达12%。受全球半导体市场复苏和国内承接产业转移,预计全球光刻胶市场将保持稳定增速,国内市占率稳步抬升。
光刻胶生产、检测、评价的设备价格昂贵,需要一定前期资本投入;光刻胶企业通常运营成本较高,下游厂商认证采购时间较长,为在设备、研发和技术服务上取得竞争优势,需要足够的中后期资金支持。企业持续发展也需投入较大的资金,光刻胶行业在资金上存在较高的壁垒,国外光刻胶厂商相对于国内厂商,其公司规模更大,具有资金和技术优势。
总体上,光刻胶行业得到国家层面上的政策支持。《国家集成电路产业发展推进纲要》,提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备,开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”;国家重点支持的高新技术领域(2015)中提到“高分辨率光刻胶及配套化学品作为精细化学品重要组成部分,是重点发展的新材料技术”;光刻技术(包括光刻胶)是《中国制造 2025》重点领域。
光增感剂
是引发助剂,固体光刻胶公司,能吸收光能并转移给光引发剂,或本身不吸收光能但协同参与光化学反应,无机光刻胶公司,起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使曝光区域发生酸解反应,用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率(resolution)
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来(CD,CriticalDimension)衡量分辨率。
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