光刻胶概况

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光刻胶又称光致抗蚀剂，是光刻工艺的关键化学品，主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工，同时在 LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用，是微细加工技术的关键性材料。
光刻胶的主要成分为树脂、单体、光引发剂及添加助剂四类。
其中，NR27 25000P光刻胶，树脂约占 50%，单体约占35%，光引发剂及添加助剂约占15%。

微流控芯片硅片模具加工如何选择光刻胶呢？

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一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。
虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响。
同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，正胶难以企及。
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如何选择光刻胶

光刻胶必须满足几个硬性指标要求：高灵敏度，高对比度，好的蚀刻阻抗性，高分辨力，易于处理，高纯度，长寿命周期，低溶解度，低成本和比较高的玻璃化转换温度（Tg）。
主要的两个性能是灵敏度和分辨力。
大多数光刻胶是无定向的聚合体。
当温度高于玻璃化转换温度，聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现，因此呈粘性流动。
当温度低于玻璃化转换温度，NR27 25000P光刻胶多少钱，链条片段的分子运动停止，聚合体表现为玻璃而不是橡胶。
当Tg低于室温，胶视为橡胶。
当Tg高于室温，胶被视为玻璃。
由于温度高于Tg时，聚合体流动容易，于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理，NR27 25000P光刻胶价格，可达到更稳定的能量状态。
在橡胶状态，溶剂可以容易从聚合体中去除，如软烘培胶工艺。
但此时胶的工作环境需要格外关注，当软化胶温度大于Tg时，它容易除去溶剂，但也容易混入各种杂质。
一般来说，NR27 25000P光刻胶哪里有，结晶的聚合体不会用来作为胶，因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。

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