为什么现在还有人使用负性胶
划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。
光刻胶在曝光之后，被浸入显影溶液中。
在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。
理想情况下，NR75 1000HP光刻胶哪家好，未曝光的区域保持不变。
负性光刻胶正好相反，在显影剂中未曝光的区域将溶解，NR75 1000HP光刻胶，而曝光的区域被保留。
正性胶的分辨力往往是较好的，因此在IC制造中的应用更为普及，但MEMS系统中，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。
期望大家在选购光刻胶时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。
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光刻胶分类
1、负性光刻胶
主要有聚酸系(聚酮胶)和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的KPR为代表，后者以OMR系列为代表。
2、正性光刻胶
主要以重氮醒为感光化台物，以酚醛树脂为基本材料。
的有AZ-1350系列。
正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。
3、负性电子束光刻胶
为含有环氧基、乙烯基或环硫化物的聚合物。
的是COP胶，典型特性:灵敏度0.3~0.4μC/cm^2 (加速电压10KV时)、分辨率1.0um、 对比度0.95。
限制分辨率
的主要因素是光刻胶在显影时的溶胀。
4、正性电子束光刻胶
主要为甲酯、烯砜和重氮类这三种聚合物。
的是PMMA胶，典型特性:灵敏度40~ 80μC/cm^2 (加速电压20KV时)、分辨率0.1μm、 对比度2~3。
PMMA胶的主要优点是分辨率高。
主要缺点是灵敏度低，此外在高温下易流动，耐干法刻蚀性差。
光刻胶介绍
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光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一，是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。
在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，NR75 1000HP光刻胶厂家，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，然后得到所需图像。
光刻胶作为技术门槛极高的电子化学品一直被国际企业垄断。
随着大力研发和投入， 国内企业已逐步从低端 PCB 光刻胶发展至中端半导体光刻胶的量产。
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