光刻胶的作用有什么？

光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，NR74g 6000PY光刻胶哪里有，为后续的刻蚀步骤作准备。
在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，在通过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。
再经过刻蚀过程，NR74g 6000PY光刻胶公司，实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。
在刻蚀过程中，光刻胶起防腐蚀的保护作用。

光刻胶的组成

光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。
树脂是光刻胶中占比较大的组分，构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。
光活性物质是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等其决定性作用。

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光刻胶简介

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光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，江苏NR74g 6000PY光刻胶，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。
印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。
[1]  光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。
硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。

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